真空等离子清洗机TS-PL180MA产品参数:
型号 | 真空等离子清洗机TS-PL180MA |
电源频率 | 40KHz/13.56MHz可选 |
容量 | 180L |
功率 | 0-1000W(可调) |
腔体尺寸 | (长宽高mm)500*600*600 |
处理层数 | 17层 |
外形尺寸 | (长宽高mm)1200*1200*1730 |
真空泵 | 油泵/干泵+罗茨组合 |
真空度 | 5-100pa(可调) |
腔体材质 | 316不锈钢/进口铝合金(选配) |
气体流量控制 | 0-500SCCM(MFC±2%) |
气体通道 | 两路(可增加):Ar/N2/H2/CF4/02 |
等离子体发生器 | 40KHz/13.56MHz |
腔体温度 | <30℃ |
控制方式 | PLC+触摸屏 |
系统控制软件 | 自主研发V2.0 |
电极陶瓷 | 进口高频陶瓷 |
真空等离子清洗机产品特点:
大型真空等离子清洗机其功能部件包括:反应仓、机械骨架、供气系统、真空系统、射频电源和控制系统。
1) 采用13.56MHz的射频电源,并带有自动阻抗匹配器,可提供稳定的处理工艺;
2) 采用平板式结构,利于等离子体均匀分布
3)采用带有触摸屏人机界面的PLC来控制等离子体电源的各项参数以及各个输入输出设备,优点在于人机界面友好、灵活性高、稳定可靠,减少人为产生的失误。同时便于在不断的工艺实验过程中通过软件来持续提升设备性能。对于工艺管理使用配方方式,方便于各个参数的输入与管理。同时可以对不同内容的参数进行分级操作,满足设备操作员、工艺工程师、设备工程师对于人机交互的不同要求。并在设备中设计多重软硬件连锁的保护功能来确保操作人员以及设备的安全。
4) 所有功能部件内置,结构紧凑;
5)灵活的搁架结构,电极板可拆卸,并且可灵活调节距离放置不同的清洗物。
等离子清洗设备作为一种精密干法清洗设备,适用于混合集成电路、单片集成电路管壳和陶瓷基板的清洗;应用于半导体、厚膜电路、元器件封装前、硅片刻蚀后、真空电子、连接器和继电器等行业的精密清洗,可去除金属表面的油脂、油污等有机物及氧化层。还可应用于塑料、橡胶、金属和陶瓷等表面的活化以及生命科学实验等。